《造光者》產業啟示｜從ASML看見拋光產業的另一條生路

在《造光者：晶片戰爭中最神秘的關鍵企業，微影巨人ASML制霸未來科技賽局的崛起之路》一書中，ASML的崛起並非一條理所當然的成功路線。它曾只是一家資金有限、員工人數不到50人的小公司，最終卻成為全球高科技產業中無法忽視的關鍵存在。回到傳統金屬加工件的鏡面拋光，我們也很清楚，噴射拋光並不會直接用於晶圓本身；然而，晶圓得以穩定製造，從來不是仰賴單一零件，而是一整套設備高度協作的成果。此刻，我們同樣正站在一個相似的轉折點，逐步形塑屬於自己的、獨特而關鍵的製程支援角色。

ASML半導體製程核心的關鍵企業

ASML是一家來自荷蘭的高科技設備公司，專注於半導體微影（曝光）設備的研發與製造，是全球先進晶片製程中不可或缺的關鍵角色。其最具代表性的產品為EUV（極紫外光）曝光機，目前全球能夠量產此設備的企業，只有ASML一家。也正因如此，ASML被視為掌握先進製程門檻的核心企業，其技術與設備，直接影響全球半導體產業的發展速度與方向。

《造光者：晶片戰爭中最神秘的關鍵企業，微影巨人ASML制霸未來科技賽局的崛起之路》這本書就是是以ASML為核心，解析全球半導體產業權力結構與技術競賽的產業紀實作品。書中描述ASML如何從一家資源有限、規模極小的荷蘭公司，押注高風險的極紫外光（EUV）微影技術，最終成為全球先進製程無法取代的關鍵企業。

EUV極紫外光：超越想像的光學極限

EUV（極紫外光）是一種波長極短的光線，無法像可見光一樣透過玻璃鏡片折射，只能靠反射。而要反射這種光線，反射鏡必須達到近乎原子等級的平滑度。在ASML的EUV曝光機中，工程師會利用二氧化碳雷射擊中微米等級的液態錫滴，瞬間產生高能電漿，進而釋放出EUV光。

以常見我們在說的表面粗糙度要求上，EUV反射鏡的等級，遠遠超過一般金屬鏡面加工件（常見鏡面等級約Ra0.4µm）的標準，屬於再放大數倍以上的極致鏡面世界。這樣的精度，自然不是噴射拋光能直接完成，而必須結合電解拋光、超精密研磨等更高階製程。

這樣一台EUV曝光機的造價約4億歐元。換算一下，差不多等於可以買8戶陶朱隱園、4架F-35噴射戰鬥機。

重新思考拋光產業定位：在巨人的設備旁，找到自己的不可取代

在《造光者》這本書中，講的不只是ASML的成功，更是每個看似不相關的產業共同完成一項「不可能任務」的故事。而每一條成熟的產業鏈，都需要有人站在核心旁邊，把關鍵細節做到最好。

旻鈺科技近年收到不少來自半導體製程相關的拋光與加工需求。我們很清楚，噴射拋光不會、也不該直接用在晶圓本身；但晶圓能被穩定製造，從來不是只靠晶圓，而是靠整套設備、結構件、原料與機構件的高度協作。

在傳統金屬加工景氣承壓、半導體產業高速成長的此刻，也許換個角度思考——打不贏，不一定要硬拚；專注於自己的專業，加入供應鏈，成為關鍵支援，反而是一條新的路。ASML當初不也是一間資金有限、員工不到50人的小公司嗎？只要持續不放棄，專精技術，多方合作成就新的不可取代性。

近期與半導體相關業者的交流，也讓我們在鏡面加工、拋光技術與製程理解上，看見了更多升級與進化的方向。